光学镀膜硅铝混合物（SiO₂-Al₂O₃）产品介绍
全称：二氧化硅-三氧化二铝混合物（光学镀膜级）
简称：硅铝混合料、硅铝氧化物、SiO₂:Al₂O₃
一、基本参数
- 成分：SiO₂ + Al₂O₃（氧化物混合烧结）
- 常用配比：95:5 / 90:10 / 80:20（可定制）
- 外观：白色/浅灰白色致密颗粒
- 纯度：99.9% / 99.99%（光学高纯级）
- 形态：1–3mm、2–4mm 烧结颗粒
- 折射率：约 1.48–1.55 @550nm（随铝含量升高略增）
- 透光范围：0.3–2μm（紫外–近红外高透）
- 蒸发温度：1600–2200℃（电子束蒸发）
- 适用工艺：电子束蒸发、电阻热蒸发、离子辅助镀膜（IAD）
二、核心性能优势
1. 低折射率、高透过
接近SiO₂折射率，全波段透过高、吸收极低，无色差、无黄变。
2. 膜层致密、应力低
比纯SiO₂更致密、耐湿热、抗裂，兼顾Al₂O₃的硬度与SiO₂的柔性。
3. 附着力超强
与玻璃、塑料、金属基底结合力强，尤其适合树脂/塑料镜片打底。
4. 蒸发稳定、无飞溅
高温烧结致密料，出气少、熔化均匀、镀膜稳定，膜厚一致性好。
5. 耐候性优异
防水、防油污、耐酸碱、耐高温，长期使用不变色、不脱膜。
三、光学镀膜主要应用
- 增透膜（AR）：手机镜头、相机镜头、眼镜片、车载镜头、安防镜头
- 打底膜（Buffer Layer）：塑料/树脂基底优先打底层，提升膜系附着力与耐候性
- 滤光片/分光膜：红外滤光片、冷光镜、干涉滤光片、激光镜片
- 保护膜：光学元件、显示面板、光伏玻璃、精密仪器表面防护
- 多层膜系搭配：常与 TiO₂、Ta₂O₅、Ti₃O₅ 等高折射率材料配对