光学镀膜材料 一氧化硅（SiO）产品介绍
一、产品基本信息
名称：光学级一氧化硅
化学式：SiO
外观：浅棕色～棕褐色致密颗粒、块状
纯度：99.9% / 99.99%
形态：1–3mm、2–5mm 烧结颗粒、块状
CAS：10097-38-9
二、光学核心性能
折射率：约 1.85–2.0 @550nm，中折射率材料
透光波段：400nm～8μm，可见光至中远红外透过良好
膜层透明，吸收低、散射小
膜层致密均匀，附着力优异
应力适中，成膜稳定
真空蒸发顺畅，出气少，镀膜一致性好
三、主要用途（光学镀膜核心材料）
红外增透膜、红外减反膜
红外窗口、红外透镜、热成像光学元件
多层光学膜系、干涉滤光片
激光器件、光通讯器件镀膜
保护膜、阻隔膜、防潮膜
眼镜镜片、光学镜头镀膜
四、工艺适配
适用：真空热蒸发、电子束蒸发（E-beam）、离子辅助镀膜（IAD）
常用搭配材料：SiO₂、Ge、ZnS、PbF₂、Nb₂O₅
工艺成熟，尤其适合红外光学镀膜批量生产
五、产品优势
高纯度致密颗粒，蒸发稳定、无飞溅
红外波段透过优异，是红外光学常用材料
膜层牢固，耐候性、耐湿热性好
成膜应力温和，不易开裂脱落